Автор: Irisboyev, Farkhod Boymirzayevich; Mukhtorov, Doston Naim ugli

Аннотация: Имплантация пучков средних и высоких энергий используется для формирования соединений p- или n-типа в полупроводниках. В последние годы их также стали использовать для получения наноточек в глубоких слоях. Имплантация низкоэнергетических ионов в основном используется для модификации поверхностных слоев твердых тел, получения нанофаз, нанокластеров, нанокристаллов и нанопленок.

Ключевые слова: Имплантация низкоэнергетических ионов, процесс модификации, диффузионная организация, ионно-легированный слой, ионно-деформированный слой, монокристаллические наноматериалы, наноплеоны, лазерные технологии, эмиссионные свойства.

Страницы в журнале: 122 - 125