Автор: Irisboyev, Farkhod Boymirzayevich; Mukhtorov, Doston Naim ugli

Аннотация: Метод фотолитографии уже с большой точностью отдан в структурах ЯО', рисуется форма с топологией и затем она технологически обрабатывается. Специальный фотографический процесс в фоторезисте (слои светочувствительного полимера). Фоторезисты. ФС представляют собой светочувствительные материалы, которые растворяются под воздействием света, форма обрабатывается в зависимости от события изменения. При методе распыления ФР представляет собой сжатый воздух, распыляемый по поверхности образца. Этот метод позволяет получить толстый ФР.

Ключевые слова: Метод фотолитографии, световое воздействие, Фоторезисты, упрочнение фоторезиста, рисунок по фотошаблону, формование луча, эродирование ненужных участков, удаление излишков ФР.

Страницы в журнале: 107 - 110